日亚化学从一个不足200人的小公司，成长为世界知名的LED领导企业，核心专利和技术是其参与全球市场竞争的有力武器，对日亚化学围绕中村修二作为发明人的蓝光LED的专利布局进行分析，可以看出日亚化学在知识产权方面的重视和布局特点。因此，本期我们来看看日亚化学专利布局的几个特点。同时，本期最后，我们学习如何从过期专利中获取有用的信息。

提前布局

    蓝光LED的制备是业界公认的技术难题，被认为是20世纪不可能完成的任务，谁也无法预料蓝光LED在什么时候能够真正实现，中村修二凭借执着使得难关一个个被攻破，日亚化学虽有动摇，但从1989年中村修二的第一件专利开始，直至1993年实现蓝光LED的量产期间，中村修二的发明专利申请达到了92件。如果没有“兵马未动，粮草先行”的提前布局意识，直至蓝光LED可预见成功时才匆忙进行专利申请，就会丧失时机，日亚化学作为一个小公司，既不能凭借蓝光LED的大量核心、基础专利频频向业界巨头发起诉讼，由此获取高额的专利许可费用，也不能垄断蓝光芯片的市场。

多维保护

    蓝光LED的实现是一个集衬底技术、晶体生长、MOCVD设备、器件结构、电极材料与结构、欧姆接触、封装、切割等多方面技术为一体的研究，如果仅有单个或少数专利往往不能对蓝光LED及其基于蓝光LED的白光LED销售市场产生有效保护，也就不能形成有效的技术壁垒，中村修二的研究涵盖了蓝光LED制备的每一个技术点，日亚化学也对蓝光LED进行了多角度、全方位的专利布局，从而形成了竞争对手难以逾越的技术鸿沟。其专利申请所涉及的技术主题如图1所示。

图1

重点突出

    日亚化学大部分专利申请仅在本土布局，其中中村修二作为发明人的专利申请的多边申请为5%，换言之本土申请量则为95%。但是具体到蓝光LED技术，日亚化学却准确地在涉及实现蓝光LED的关键技术进行了海外布局，从一开始的Two-Flow设备、实现GaN膜的制备技术、PN结蓝光LED、双异质结蓝光LED等都在主要竞争市场，如欧洲、美国、韩国、中国台湾进行了专利布局，这些专利是标志性的成果，成为了日亚化学重点布局的对象。

    此外，日亚化学充分利用了分案申请、巴黎公约合案申请等规则，例如：关于欧姆接触的CN1102507A，在中国经过八次分案申请，从各种不同的角度，把整个申请文件中可能的技术方案都加以保护起来。

案例提示

    通过这个案例告诉我们，掌握了行业前沿技术的企业，一定要注意提前布局，抢占先机；并且需要结合技术本身的特点，进行多维度保护；最后，还要考虑企业的成本问题，突出重点保护的技术。

    专利分析中少有人会对过期专利（也即保护期限已过，一般发明专利保护期限20年，实用新型专利保护期限10年）进行分析学习，笔者以中亚化学在蓝光LED领域中过期专利为例，为我们提供了一种新的学习思路。

1.先明确过期专利的技术地位

    中心修二提出的蓝光LED的技术路径是一条完整的、能够使LED商品化的解决方案，属于LED的上游核心技术，是目前我国LED上游制造企业难以逾越的技术鸿沟；是日亚化学频频发起专利侵权诉讼的有力武器之一。

2.过期专利对技术发展的影响

    首先，随着蓝光LED基础专利的20年有效期满，日亚化学将失去部分优势，消弱其在蓝光LED领域的垄断地位，降低我国企业面临的风险。

    其次，尽管实现蓝光LED的技术路径不是唯一的，也有其它业界巨头另辟蹊径，提出了不同的解决方案，但是我国企业目前还不具备这样的实力。从我国产业布局情况来看，封装、应用等中下游领域占据了主要份额，而在LED衬底、外延与芯片等上游领域则处于劣势。因此，当中村修二这条技术路径完全释放出来之后，有利于我国企业积极利用这些公知技术，站在日亚化学的“肩膀”上，对蓝光LED技术进行二次开发，作出更高起点的发明创造，开发出更具有实用性和前瞻性的专利；弥补我国在LED上游领域核心技术、核心专利方面的缺失。

    再有，有利于我国企业积极拓展海外市场。反观日亚化学早期的专利布局特点，针对于中村修二相关的专利申请，其进行多边申请的比例仅占5％，95％的专利申请都仅仅布局日本本土，可能是当时日亚化学没有能充分认识到某些专利技术的重要性，对这个行业可能的发展预估不足，由于专利的地域性，日亚化学不能在没有布局的地区和国家获得保护，从而也不能针对竞争对手提起诉讼，从而使得很大程度上制约了日亚化学利用“专利武器”在海外阻击竞争对手。比如日亚化学和首尔半导体之间的专利诉讼，除了进入韩国的专利可以作为武器在韩国提起诉讼，其他则只能针对首尔半导体出口到日本的产品，选择相关专利提起诉讼，2007年5月，日亚化学认为首尔半导体的白光Z-Power LEDP9侵犯了其发明专利JP3511970,JP2778349，在日本的大阪对首尔半导体提起侵权诉讼。这两篇专利均是中村修二的发明，具体涉及外延-结构-欧姆接触层。

    一方面因为中村修二的早期基础专利，包括“Two-Flow”外延方法，缓冲层技术、PN结LED、双异质结LED，GaN膜、InGaN膜的外延技术专利并没有进入中国；另一方面中村修二的大部分专利又被仅布局在日本本土，所以中国企业在芯片和外延技术上面临日亚的威胁主要是海外。现在这样的威胁被消弱了，则有利于企业进行海外市场的拓展。

    最后，LED领域的核心专利面临失效是我国LED业界所期待的，但是也应该注意到日亚化学是一个注重技术研发和专利布局的LED领导企业，其善于运用专利战略，所具有的专利布局意识是我国企业所欠缺的，围绕这些核心专利的过期，日亚化学肯定有自己的“补救”措施，一方面进行技术更新，继续抢占先机，垄断市场；另一方面继续布局大量外围专利，形成新的技术壁垒。除了日亚化学之外，LED领域的其他企业，特别是五大巨头，他们也拥有诸多核心技术，进行了相当数量的专利布局，如果不能在技术上有所创新，形成具有一定数量的核心专利技术，我国LED企业将继续沿袭“缺乏核心技术、核心专利，受制与人”的不利境地。

    作者简介：李明，曾任国家知识产权局审查协作中心电学部审查员，现任 经纬（北京）知识产权代理有限公司总经理，曾参与多项专利分析项目，有丰富的专利分析、布局、预警经验。