专利挖掘是根据企业自身需求，发现创新点并形成专利申请的过程。这是企业专利布局工作的重要支撑。

       而专利挖掘形成的直接成果就是技术交底书，那么技术交底书要如何规范撰写？

（一）基本撰写要求

        技术交底书主要展用于发明人与专利工程师或专利代理人之间的沟通需要，以便于专利工程师或专利代理人真正理解发明内容，撰写合格的专利申请文件。

1.基本撰写要求

       （1）清楚描述现有技术及其缺点，让专利工程师了解与发明有关的现有技术的现状及关于有关技术问题可能的技术解决方案，帮助专利工程师准确把握本发明作出的技术贡献及其价值。

       （2）清楚描述发明采用的技术方案，要求主题明确、表述准确、技术方案完整、技术方案可实现。

      （3）清楚描述发明技术方案的有益效果，针对所要解决的技术问题，本发明技术方案相对于现有技术取得的技术进步和技术效果。

2.一般撰写要求

       （1）技术交底书需要提供能够实现发明目的的多个不同的、变通的、替代的实施例。

       （2）技术交底书应对采用的技术方案分析产生有益效果的原因。

       （3）提供附图并详细描述附图。

（二）撰写要点

1.发明或实用新型的名称

        根据现有技术来明确写出专利名称，且不能使用宣传用语。

2.所属技术领域

        明确写明该发明创造直接所属或直接应用的技术领域。

3.背景技术及其缺陷

        现有技术指发明人所知晓的且对理解、检索、审查该申请有参考作用的背景技术。至少引证一篇与本申请最接近的现有技术文件，必要时可再引用几篇较接近的对比文件。

        缺陷是指与发明创造最相关的现有技术存在的技术问题，但该技术问题应当是本技术方案能够解决的技术问题。

4.发明目的

        针对解决现有技术中存在的问题和缺点，也就是要结合本发明或实用新型取得的效果提出所要完成的任务。

5.发明内容

        实现发明目的所利用的具体技术方案和手段，要求清楚、完整、准确地对技术手段加以描述以使本领域内的普通技术人员能实施为准。

6.有益效果

        与现有技术相比，本申请技术能实际解决技术问题而带来的效果。

7.最佳实施方式

         实施例应当详细、具体地描述本专业普通技术人员实施和再现本发明所需的一切必要条件。

8.附图及附图说明

         附图有零件图、组件装配图、组件爆炸图、电路图、线路图、流程图、方框图、模块图、曲线示意图、形状示意图等，可采取多种绘图方式，以充分体现发明点之所在。